形成氨逃逸以及氨逃逸浓度高的原因？

    形成氨逃逸以及氨逃逸浓度高的原因？

    氨逃逸是影响SCR系统运行的一项重要参数，实际生产过程中通常是多于理论量的氨到达反应器，反应后在烟气下游多余的氨称为氨逃逸，氨逃逸是通过单位体积内氨含量来表示的。为了达到环保要求，往往需要一定过量的氨，所以也对应着会有一个合适的氨逃逸值，该值设计为不大于5ppm，但是实际运行中往往偏大，主要有以下因素：

    （1）每只氨喷枪喷氨流量分布不均。烟气中存在氨水局部分布不均，烟气流速不均匀，各喷枪出口的喷氨量差异较大，浓度高的地方氨逃逸相对高一些。
    （2）烟气温度。反应温度过低，NOx与氨的反应速率降低，会造成NH₃的大量逃逸，但是，反应温度过高，氨又会额外生成NO，所以，NH₃存在最佳的反应温度，在SNCR氨的最佳反应温度800-1100℃。
    （3）催化剂堵塞，脱硝效率下降，为了保持环保参数不超标，会喷更多的氨，这将引起恶性循环，催化剂局部堵塞、性能老化，导致催化剂各处催化效率不同，为了控制出口参数，只能增加喷氨量，从而导致局部氨逃逸升高。
    （4）雾化风量偏小。喷枪雾化不好，氨水与烟气不能充分混合，将产生大量的氨逃逸。
    （5）氨水浓度。氨水浓度高低无法受控，基本上氨水浓度高，氨水调阀开度过小，雾化不好易自关，导致氨逃逸高，操作难度大。

    山东新泽仪器有限公司生产的TK-1100型氨逃逸在线监测系统采用高温伴热抽取技术+TDLAS技术(可调谐半导体激光光谱吸收技术），对脱硝过程中的逃逸氨进行连续在线监测，主要应用于众多工业领域气体排放监测和过程控制，如燃煤发电厂、铝厂、钢铁厂、冶炼厂、垃圾发电站、水泥厂和化工厂、玻璃厂等。

    产品特点：

    1.先进的可调谐半导体激光光谱吸收技术；
    2.可靠的长光程加热气室设计，光程可达760mm；
    3.超低浓度测量，分辨率可达0.1ppm；
    4.半导体激光的谱宽小于0.001nm，避免粉尘和水分交叉干扰；
    5.设备维护简单，使用成本低。